(1)硫酸濃度。改變硫酸濃度對陽極氧化膜的阻擋層厚度、電解液的導(dǎo)電性和對陽極氧化膜的溶解作用、陽極氧化膜的耐蝕性和耐磨性以及后道處理的封孔質(zhì)量都將產(chǎn)生一定的影響。
（導(dǎo)讀：陽極氧化_陽極氧化處理的工藝參數(shù) http://315488.cn/Article/yangjiyanghua_yangji_1.html）
  硫酸濃度高，對陽極氧化膜的溶解作用大，形成的阻擋層則薄，維持一定電流密度所需的電壓降低;反之.阻檔層則厚，所需的電壓升高(見圖1-1)

  硫酸濃度對電解液導(dǎo)電性的影響，如圖1-2所示。導(dǎo)電性最好的硫酸濃度約為375g/L，但通常不采用這么高的濃度.極大多數(shù)工業(yè)化生產(chǎn)陽極氧化電解液采用較低的濃度，一般在150~220g/L之間。這是因為采用較高的濃度，雖然對維持恒定1~1.3A/dm^2電流密度所需的電壓可降低(見圖1-3)，但是必須還要考慮硫酸濃度對陽極氧化膜的影響。

 

  圖1-4所示為在一定電流密度下，硫酸濃度、溫度和電壓的關(guān)系。隨硫酸濃度和溫度上升所需電壓下降，表面上表示省電，實際上較高的硫酸濃度加大了對陽極氧化膜的浸蝕。

  圖1-5所示為硫酸濃度對陽極氧化膜質(zhì)量的影響。硫酸濃度高，效率反而低，即獲得一定厚度陽極氧化膜的電耗大。由圖7-5也可以看出，氧化膜的極限厚度，隨著硫酸濃度的提高而明顯減薄，因此，如生產(chǎn)較厚的陽極氧化膜，在其他工藝條件不變的情況下應(yīng)適當(dāng)降低硫酸濃度。

 

  硫酸濃度對陽極氧化膜耐蝕性和耐磨性的影響分別如圖1-6和圖1-7所示。一般來說，隨著硫酸濃度的增加，膜的耐蝕性和耐磨性均下降。耐蝕性近似線性遞減，耐磨性從15%硫酸濃度為界，大于這個濃度后，隨著濃度的增加，下降幅度增大。但如果硫酸濃度太低。電解所需的電壓則很高，電能消耗大，且得到的陽極氧化膜發(fā)灰，亮度下降，著色性能也較差。

 

  硫酸濃度對封孔也有較大影響。對建筑用6063鋁合金型材，采用一般陽極氧化工藝條件和冷封孔常用工藝。Ni2+:1一1.5g/L,F:0.3-0.5g/L,pH二5.8-6.5,溫度:27-300t、時間:15^-18min。當(dāng)硫酸濃度超過220g/L時，冷封孔質(zhì)量不合格(見圖1-8)，表面出現(xiàn)粉霜。這是因為硫酸濃度太高時，特別是在電流密度亦較高的情況下，將會使膜層中的SO:含量增加，使膜變得松散，另外硫酸濃度高，對陽極氧化膜的溶解作用大，氧化膜膜孔錐度大、外層孔徑增大.使封孔困難。

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