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陽(yáng)極氧化處理_陽(yáng)極氧化工藝參數(shù)的影響(下)

文章出處:網(wǎng)責(zé)任編輯:作者:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2014-06-05 15:49:00

  (3)氧化電壓.陽(yáng)極氧化的氧化電壓決定氧化膜的孔徑大小,低壓生成的膜孔徑小、孔
 


  數(shù)多,而高壓使膜孔徑大,但孔數(shù)少。在一定范圍內(nèi)高壓有利于生成致密、均勻的膜。有些工廠陽(yáng)極氧化只控制電壓和陽(yáng)極氧化時(shí)間,這樣特別對(duì)厚膜處理,產(chǎn)品的膜厚有時(shí)相差較多,原因在于膜厚的增加在一定時(shí)間內(nèi),只與單位面積上通過的電量[也就是電流密度與時(shí)間的乘積,庫(kù)侖(C)]成正比,與恒定電壓下的陽(yáng)極氧化時(shí)間沒有直接的關(guān)系。在恒定電壓下,電流密度會(huì)隨著陽(yáng)極氧化時(shí)間的延長(zhǎng)而下降.下降情況視合金不同有差異,電流密度也隨槽液溫度和濃度而變化。維持一定電流密度所需的電壓越高,則陽(yáng)極氧化過程中釋放的熱量就越多,為穩(wěn)定膜性能需要帶走熱量越困難。電壓和電流密度之間關(guān)系不是單一的關(guān)系,可能會(huì)受槽液濃度、溫度、鋁含量、攪拌和合金種類等影響。

  圖1-18所示為不同槽液溫度時(shí)電壓與電流密度的關(guān)系。表明溫度低,恒定一個(gè)電流密度所需的電壓升高,反之所需電壓降低。因此,當(dāng)用電壓和時(shí)間控制氧化膜厚度時(shí),如槽液溫度出現(xiàn)大的波動(dòng),電流密度就會(huì)隨之發(fā)生較大變化,使最終氧化膜厚度難以控制。
 


  圖1-19所示為槽液攪拌對(duì)不同合金的電壓和電流密度的影響。在低電壓時(shí)攪拌影響不大,隨電壓的升高,攪拌的影響就不能忽視。雖然攪拌使一定電壓下的電流密度降低、一定電流密度下所需的電壓升高,似乎需要更多的電能,但是因?yàn)閿嚢栌欣诓垡簻囟群蜐舛鹊木鶆颍欣诩皶r(shí)帶走鋁工件表面的熱量,有利于提高氧化膜的質(zhì)量,所以一般工廠在陽(yáng)極氧化過程中對(duì)槽液都進(jìn)行不同程度的攪拌。

  合金種類對(duì)電壓與電流密度關(guān)系的影響(見圖1-20)。對(duì)采用恒定電壓和時(shí)間控制氧化膜厚度的工廠,當(dāng)陽(yáng)極氧化處理不同合金時(shí)應(yīng)設(shè)定不同的電壓,才能基本保證在同樣時(shí)間內(nèi)獲得相同膜厚。陽(yáng)極氧化電壓一般采用15~20V,在陽(yáng)極氧化剛開始時(shí)應(yīng)緩慢升高電壓。

  (4)陽(yáng)極氧化電流密度。陽(yáng)極氧化電流密度與生產(chǎn)效率有直接的關(guān)系。當(dāng)采用較高陽(yáng)極氧化電流密度時(shí),得到預(yù)定厚度氧化膜所需時(shí)間可以縮短,生產(chǎn)效率高,但電源的電容量要大。此外陽(yáng)極氧化電流密度過高,使膜厚波動(dòng)大,還易引起工件“燒傷。”在一定電流密度范圍內(nèi),膜層耐蝕


  性、耐磨性與電流密度的關(guān)系如表1-3所示。在0.5A/dm2的低電流密度下長(zhǎng)時(shí)間陽(yáng)極氧化,由于化學(xué)溶解時(shí)間長(zhǎng),使膜層耐蝕性、耐磨性下降,因此,一般電流密度控制在1.2~1.8A/dm^2范圍內(nèi)。

  當(dāng)槽液組成發(fā)生變化時(shí),在一定電壓和溫度下的電流密度隨之發(fā)生變化。圖1-21所示
 



  為硫酸濃度與電流密度的關(guān)系,硫酸濃度高低對(duì)槽液的導(dǎo)電性有較大影響,硫酸濃度高,槽液的導(dǎo)電性好,因而恒壓下的電流密度也就相應(yīng)提高.圖1-22顯示鋁含量與電流密度的關(guān)系,當(dāng)鋁含童增加時(shí),槽液電阻增加,導(dǎo)電性下降。

  一般工廠為了精確控制氧化膜厚度,都根據(jù)鋁工件的表面積,按選定的電流密度計(jì)算出應(yīng)設(shè)定的總電流,采用恒電流控制(即恒電流密度〕,這樣氧化膜厚度在一定范圍內(nèi)與陽(yáng)極氧化時(shí)間成比例增加。在陽(yáng)極氧化過程中,隨時(shí)間的延長(zhǎng),電解電壓會(huì)不斷上升(見圖1-23),這是由于膜厚隨時(shí)間增加,膜電阻增加所致。

  電流密度的選擇主要根據(jù)對(duì)氧化膜的質(zhì)量要求和下列幾點(diǎn)確定。

  ①電流密度低(約IA/dm'),處理表面光亮,但陽(yáng)極氧化效率低.
 


  ②電流密度高,膜生成快,但易產(chǎn)生軟膜,甚至燒傷。

  ③電流密度越大,在膜與槽液界面上產(chǎn)生的熱量就越多,槽掖更需要攪拌。如果槽液有足夠的攪拌和冷卻能力,那么采用較大的電流密度陽(yáng)極氧化,有利于提高膜的耐磨性。

  ④陽(yáng)極氧化設(shè)定的總電流不允許超過電源的最大電流。

  (5)槽液攪拌。為了使陽(yáng)極氧化槽液溫度和濃度均勻,特別是當(dāng)采用較大電流密度時(shí),及時(shí)將氧化膜附近的大量熱量帶走,一般在陽(yáng)極氧化過程中都對(duì)槽液進(jìn)行攪拌。槽液攪拌有兩種方式,一是用無油空氣攪拌,每平方米液面攪拌空氣量0.22~0.45m^3/min,空氣壓力按每米液深((0.15~0.5)X10^5Pa考慮,攪拌不宜過于強(qiáng)烈,以免處理工件電接點(diǎn)松動(dòng),造成燒傷。二是用酸泵循環(huán)攪拌,將槽液從槽中部抽出或靠液面溢流,再?gòu)牟鄣撞康你@孔管打回槽內(nèi)。后種方式與槽液冷卻組成一個(gè)系統(tǒng),一般工廠都配置,但往往配置的循環(huán)量不夠,普通陽(yáng)極氧化為達(dá)到槽液溫差在士1℃內(nèi)要求,循環(huán)量需每小時(shí)3-4倍槽液體積。陰極板上套氣袋會(huì)使槽液的流動(dòng)性減弱,當(dāng)循環(huán)量不足時(shí),同時(shí)配置輕微空氣攪拌也是一種較好的選擇。

  圖1-24所示為不同電流密度下攪拌強(qiáng)度與膜厚均勻性的關(guān)系.在電流密度較低時(shí),攪拌對(duì)膜厚均勻性影響不大,但當(dāng)采用較高電流密度時(shí),如沒有攪拌或攪拌不夠,因容易引起溫度不均勻,導(dǎo)致處理鋁工件不同部位電流密度不同和氧化膜溶解能力不同,使氧化膜厚度均勻性變差。表7-4列出了不同電流密度下鋁工件陽(yáng)極溫度升高。
 


 


  從表1-4可知,在1.25A/dm^2普通陽(yáng)極氧化過程中,溫升也相差4.3℃,由此可見攪拌是需要的,而對(duì)采用較大電流密度的硬質(zhì)陽(yáng)極氧化,必須要有足夠強(qiáng)度的攪拌。

  (6)氧化時(shí)間。陽(yáng)極氧化時(shí)間的選擇,必須根據(jù)硫酸濃度、槽液溫度、電流密度、氧化鋁工件對(duì)氧化膜厚度和性能的要求來決定。當(dāng)采用恒電流密度陽(yáng)極氧化時(shí),在一定時(shí)間內(nèi),氧化膜厚度的增長(zhǎng)與時(shí)間成正比。隨著陽(yáng)極氧化時(shí)間的延長(zhǎng),氧化膜逐漸增厚,雖然氧化膜的生成能力在恒定電流密度下基本不變,但硫酸溶液對(duì)氧化膜的溶解能力在逐漸提高,產(chǎn)生這種現(xiàn)象的原因在于陽(yáng)極氧化期間膜孔中的酸液溫度逐漸升高。當(dāng)酸液對(duì)氧化膜的溶解速度達(dá)到膜的生成速度時(shí),氧化膜厚度就不再增長(zhǎng).此時(shí)的厚度稱為極限氧化膜厚度。極限氧化膜厚度的大小與陽(yáng)極氧化的工藝條件和合金種類有關(guān)。一般來說,電流密度小,硫酸濃度和槽液溫度高,極限氧化膜厚度就薄。要提高極限氧化膜厚度,應(yīng)適當(dāng)提高電流密度和降低硫酸濃度、槽液溫度。

  圖1-25所示為各種鋁合金氧化時(shí)間與膜厚的關(guān)系。在恒定電流密度下,氧化膜厚度隨時(shí)間成正比例增長(zhǎng)的厚度范圍,2024-T3鋁合金最小(約0~20μm),其次是2014-T6和7075-T6鋁合金.由圖1-25也可以看出,槽溫度對(duì)此有較大影響,即說明在其他條件不變的情況下,槽液溫度不同,極限氧化膜厚度也不同。
 


  陽(yáng)極氧化時(shí)間對(duì)氧化膜耐磨性的影響見表1-5。
 


  從表1-5可以看出,陽(yáng)極氧化時(shí)間對(duì)耐磨性有明顯影響,這是因?yàn)殡S著陽(yáng)極氧化時(shí)間的延長(zhǎng),硫酸溶液對(duì)氧化膜的溶解加劇,膜孔壁會(huì)減薄,使耐磨性降低。

  以上討論了陽(yáng)極氧化工藝參數(shù)的影響,這些工藝參數(shù)既互相聯(lián)系,又相互影響。表1-6中歸納了陽(yáng)極氧化工藝條件對(duì)氧化膜性能和槽液性質(zhì)的影響。
 




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