1.噴砂處理：鈦鑄件的噴砂處理一般選用白剛玉粗噴較好，噴砂處理的壓力要比非貴金屬者較小，一般控制在0.45Mpa以下。因?yàn)?，噴射壓力過大時(shí)，砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生激烈火花，溫度升高可與鈦表面發(fā)生反應(yīng),形成二次污染，影響表面質(zhì)量。時(shí)間為15~30秒，僅去除鑄件表面的粘砂、表面燒結(jié)層和部分和陽(yáng)極氧化層即可。其余的表面反應(yīng)層結(jié)構(gòu)宜采用化學(xué)酸洗的方法快速去除。

2.酸洗：酸洗能夠快速完全去除表面反應(yīng)層，而表面不會(huì)產(chǎn)生其他元素的污染。HF—HCl系和HF—HNO3系酸洗液都可用于鈦的酸洗，但HF—HCl系酸洗液吸氫量較大，而HF—HNO3系酸洗液吸氫量小，可控制HNO3的濃度減少吸氫，并可對(duì)表面進(jìn)行光亮處理，一般HF的濃度在3%~5%左右，HNO3的濃度在15%~30%左右為宜。

3．化學(xué)拋光：化學(xué)拋光是通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的陽(yáng)極氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光處理面積與結(jié)構(gòu)形狀無(wú)關(guān)，凡與拋光液接觸的部位均被拋光，不須特殊復(fù)雜設(shè)備，操作簡(jiǎn)便，較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學(xué)拋光處理的工藝參數(shù)較難控制，要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光處理效果。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制，HF是還原劑，能溶解鈦金屬，起到整平作用，濃度<10%,HNO3起陽(yáng)極氧化作用，防止鈦的溶解過度和吸氫，同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高，溫度低，拋光處理時(shí)間短(1~2min.)。

4．電解拋光：又稱為電化學(xué)拋光或者陽(yáng)極溶解拋光，由于鈦的電導(dǎo)率較低，陽(yáng)極氧化性能極強(qiáng)，采用有水酸性電解液如HF—H3PO4、HF—H2SO系電解液對(duì)鈦幾乎不能拋光，施加外電壓后，鈦陽(yáng)極立刻發(fā)生陽(yáng)極氧化，而使陽(yáng)極溶解不能進(jìn)行。但采用無(wú)水氯化物電解液在低電壓下，對(duì)鈦有良好的拋光處理效果，小型試件可得到鏡面拋光處理，但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光處理的目的，也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題，還有待于進(jìn)一步研究。

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